pg电子试玩平台恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-1000L
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恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000L超纯水防静电装置
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恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-3500L
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恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-7000L
深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是晶圆切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。 型号:ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-7000L ELK-10000L
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恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-6000L超纯水防静电装置
深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是晶圆切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机.型号:ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELK-7000L、ELK-100000L
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半导体晶圆切割划片清洗二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-500L
深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是晶圆切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机。